[发明专利]一种利用两次划片制备的GaN基发光二极管芯片及其制备方法有效
申请号: | 201110382594.3 | 申请日: | 2011-11-25 |
公开(公告)号: | CN103137810A | 公开(公告)日: | 2013-06-05 |
发明(设计)人: | 于峰;王贤洲;彭璐;赵霞炎 | 申请(专利权)人: | 山东浪潮华光光电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/20 | 分类号: | H01L33/20;H01L33/00 |
代理公司: | 济南金迪知识产权代理有限公司 37219 | 代理人: | 吕利敏 |
地址: | 261061 *** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明涉及一种GaN基发光二极管芯片,包括衬底层上依次是N型导电层、有源层、P型导电层和电流扩展层,在N型导电层和电流扩展层上分别是N电极和P电极;所述单个GaN基发光二极管芯片的纵截面的外形轮廓为八边形。本发明采用两次激光划片技术分别在GaN基发光二极管芯片的正面和背面划片,使单个GaN基发光二极管芯片具有八边形侧壁,增大侧壁出光角度,大大提高了GaN基发光二极管芯片的发光效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 利用 两次 划片 制备 gan 发光二极管 芯片 及其 方法 | ||
【主权项】:
一种GaN基发光二极管芯片,包括衬底层上依次是N型导电层、有源层、P型导电层和电流扩展层,在N型导电层和电流扩展层上分别是N电极和P电极;所述单个GaN基发光二极管芯片的纵截面的外形轮廓为八边形。
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