[发明专利]内置负反馈金属-半导体-金属结构紫外光单光子探测器无效
申请号: | 201110382697.X | 申请日: | 2011-11-28 |
公开(公告)号: | CN102496648A | 公开(公告)日: | 2012-06-13 |
发明(设计)人: | 闫锋;吴福伟 | 申请(专利权)人: | 南京大学 |
主分类号: | H01L31/101 | 分类号: | H01L31/101;G01J11/00;H01L31/18 |
代理公司: | 南京天翼专利代理有限责任公司 32112 | 代理人: | 陈建和 |
地址: | 210093 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种内置负反馈金属-半导体-金属紫外光单光子探测器,每个探测器从下至上包括衬底,衬底上可以生长缓冲层,衬底或缓冲层上是n型半导体,n型半导体上面是叉指状薄膜电阻,阳极电极淀积在薄膜电阻上形成阳极电极,最上层是叉指状电极,阴极电极与n型半导体形成肖特基结,阳极电极淀积在薄膜电阻上。本发明所述内置负反馈金属-半导体-金属结构紫外光单光子探测器克服了p-n和p-i-n结构紫外光单光子探测器复杂的工艺流程带来的工艺控制困难、成本昂贵的问题。 | ||
搜索关键词: | 内置 负反馈 金属 半导体 金属结构 紫外光 光子 探测器 | ||
【主权项】:
一种内置负反馈金属‑半导体‑金属紫外光单光子探测器,其特征是每个探测器从下至上包括衬底,衬底上可以生长缓冲层,衬底或缓冲层上是n型半导体,n型半导体上面是叉指状薄膜电阻,阳极电极淀积在薄膜电阻上形成阳极电极,最上层是叉指状电极,阴极电极与n型半导体形成肖特基结,阳极电极淀积在薄膜电阻上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京大学,未经南京大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110382697.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的