[发明专利]静电放电保护装置有效

专利信息
申请号: 201110384007.4 申请日: 2011-11-28
公开(公告)号: CN102522401A 公开(公告)日: 2012-06-27
发明(设计)人: 陈科远;林志峰 申请(专利权)人: 威盛电子股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 史新宏
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种静电放电保护装置,包括浮接的P型半导体基板;第一通用N型井区形成于该P型半导体基板中;第一通用N型掺杂区形成于第一通用N型井区中;第一通用P型掺杂区形成于第一通用N型井区中;第二通用N型井区形成于P型半导体基板中;第二通用N型掺杂区形成于第二通用N型井区中并连接参考电位节点;第二通用P型掺杂区形成于第二通用N型井区中;第三通用P型掺杂区形成于第一与第二通用N型井区之间,并连接第一通用N型掺杂区与第二通用P型掺杂区;以及多个周边N型井区形成于P型半导体基板中,这些周边N型井区中具有P型及N型掺杂区,其中N型掺杂区电性连接第一通用P型掺杂区。
搜索关键词: 静电 放电 保护装置
【主权项】:
一种静电放电保护装置,包括:一P型半导体基板,该P型半导体基板为浮接;一第一通用N型井区形成于该P型半导体基板中;一第一通用N型掺杂区形成于该第一通用N型井区中;一第一通用P型掺杂区形成于该第一通用N型井区中;一第二通用N型井区形成于该P型半导体基板中;一第二通用N型掺杂区形成于该第二通用N型井区中,并电性连接一参考电位节点;一第二通用P型掺杂区形成于该第二通用N型井区中;一第三通用P型掺杂区形成于该第一通用N型井区与该第二通用N型井区之间,并电性连接该第一通用N型掺杂区与该第二通用P型掺杂区;以及多个周边N型井区形成于该P型半导体基板中,这些周边N型井区中各具有一P型掺杂区及一N型掺杂区,且这些P型掺杂区分别与对应的一输出输入端电性连接,这些N型掺杂区电性连接该第一通用P型掺杂区以及一总线。
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