[发明专利]一种测试光刻机遮光挡板的方法有效
| 申请号： | 201110385575.6 | 申请日： | 2011-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN102445859A | 公开（公告）日： | 2012-05-09 |
| 发明（设计）人： | 朱骏;陈力钧;郑刚 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/44 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 王敏杰 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及半导体制造领域，尤其涉及一种测试光刻机遮光挡板的方法。本发明一种测试光刻机遮光挡板的方法，在业界标准的掩模板遮光板测试的基础上，通过采用设置有测试图形线条和测试图形线条间隙的测试研磨板，由于其上设置的测试图形线条图形是高度重复图形，能够灵敏的反馈遮光板的制造缺陷或漏光问题，所以在硅片上曝光后，利用缺陷检测设备，能够全方位测试光刻机掩模板遮光挡板制造缺陷或漏光问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 测试 光刻 遮光 挡板 方法 | ||
【主权项】：
一种测试光刻机遮光挡板的方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤S1：完成标准的掩模板遮光板测试后，确认掩模板遮光板已达到基本精度要求；步骤S2：在一测试掩模板上至少设置一测试图像，该测试图像由测试图形线条和测试图形线条间隙组成；步骤S3：采用步骤S2中设置有测试图形的测试掩模板进行曝光显影；步骤S4：利用缺陷检测设备测试遮光板是否存在问题。
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