[发明专利]电吸收调制器及光半导体装置无效
申请号: | 201110386620.X | 申请日: | 2011-11-29 |
公开(公告)号: | CN102540504A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | 大和屋武 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | G02F1/017 | 分类号: | G02F1/017;H01S5/343;H01S5/20;H01S5/22 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 毛立群;王忠忠 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种电吸收调制器,其目的在于,提高具有AlGaInAs光吸收层的电吸收调制器的特性。在n型InP衬底(1)上,按顺序层叠有n型InP包覆层(2)、AlGaInAs光吸收层(4)、p型InGaAsP光波导层(6)、以及p型InP包覆层(7)。p型InGaAsP光波导层(6)具有组成不同的三个InGaAsP层(6a、6b、6c)。InGaAsP层(6a、6b、6c)的价电子带间的能量势垒与InGaAsP层为单层的情况相比,其能量势垒变小。 | ||
搜索关键词: | 吸收 调制器 半导体 装置 | ||
【主权项】:
一种电吸收调制器,其特征在于,具备:半导体衬底;在所述半导体衬底上按顺序层叠的n型InP包覆层、AlGaInAs光吸收层、InGaAsP光波导层、以及p型InP包覆层,所述InGaAsP光波导层具有组成不同的多个InGaAsP层,所述多个InGaAsP层的价电子带间的能量势垒与InGaAsP层为单层的情况相比,其能量势垒变小。
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