[发明专利]光源装置和投影机有效
| 申请号： | 201110386656.8 | 申请日： | 2011-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN102478754A | 公开（公告）日： | 2012-05-30 |
| 发明（设计）人： | 秋山光一 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G03B21/20 | 分类号： | G03B21/20;G03B21/14;G03B21/00;F21V5/04 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 万利军;陈海红 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及光源装置及投影机。对在发光元件中因光饱和引起的发光效率下降进行抑制、可以稳定地射出强光。具备射出激励光的光源部、将激励光分割为多个子光线束的透镜阵列、使分割为多个子光线束的激励光进行聚光的聚光光学系统和通过所聚光的激励光激励而发出荧光的发光元件。 | ||
| 搜索关键词： | 光源 装置 投影机 | ||
【主权项】：
一种光源装置，其特征在于，具备：光源部，其包括射出激励光的多个固体光源，将前述激励光射出为平行的光线束；透镜阵列，其将前述激励光分割为多个子光线束；聚光光学系统，其使分割为前述多个子光线束的前述激励光进行聚光；和发光元件，其通过所聚光的前述激励光激励而发出荧光。
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