[发明专利]一种含超低杂质硅化镁合金的制作方法无效
申请号: | 201110387405.1 | 申请日: | 2011-11-30 |
公开(公告)号: | CN103131922A | 公开(公告)日: | 2013-06-05 |
发明(设计)人: | 李庆新 | 申请(专利权)人: | 李庆新 |
主分类号: | C22C23/00 | 分类号: | C22C23/00;C22C1/02;C22C1/06 |
代理公司: | 辽宁沈阳国兴专利代理有限公司 21100 | 代理人: | 侯景明 |
地址: | 110136 辽宁省沈*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明涉及硅化镁合金,尤其涉及一种含超低杂质硅化镁合金的制作方法。其特征在于将金属镁脱银、磷、硅,使镁中硅、银、磷含量降至Ag<0.04,P<0.03,Si<0.8,将上述金属镁破碎至小于∮2的颗粒后置于不锈钢容器里;放进电炉中,将不锈钢容器上的不锈钢管分别接通纯硅气源和盛水容器;充纯硅气,观测硅气的流量,给电炉送电,升温至500—650℃,保温60—120小时;电炉断电,继续充硅气至不锈钢容器,温度降温至室温即可。本发明硅含量高、杂质元素低。工艺简单易行,从金属镁的杂质元素着手,经过简单的处理,能进一步降低硫、磷、银的含量,从而取得超低杂质含量的纯净化硅化镁,进行连续的、反应温度均匀的、生产效率高及含硅量高的大规模生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 含超低 杂质 镁合金 制作方法 | ||
【主权项】:
一种含超低杂质硅化镁合金的制作方法,其特征包括如下工艺步骤: A、将金属镁脱硅、脱银、脱磷,使镁中硅、银、磷含量降为Ag<0.04,P<0.03,Si<0.8,余量为Mg; B、将上述金属镁破碎至小于∮2的颗粒后,置于一密封的、其壁上装有两根不锈钢管的不锈钢容器里; C、将上述不锈钢容器放进电炉中,将不锈钢容器上的不锈钢管分别接通纯硅气源和盛水容器; D、打开硅气源的通气阀,向盛有上述金属镁的不锈钢容器中充纯硅气,当盛水容器里的不锈钢管开口处有气泡冒出时,观测硅气的流量,给电炉送电,升温至500—650℃,保温60—120小时; E、电炉断电,继续充硅气至不锈钢容器温度降温至室温,此时其内盛有的所述金属镁为超低杂质含量的硅化镁合金,具体为:Ag<0.01,P<0.015,S<0.6,Si为4.0‑6.8,余量为Mg。
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