[发明专利]三维达曼阵列产生器有效
| 申请号： | 201110388316.9 | 申请日： | 2011-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN102385169A | 公开（公告）日： | 2012-03-21 |
| 发明（设计）人： | 周常河;余俊杰;贾伟;王少卿;麻健勇;曹红超 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G02B27/44 | 分类号： | G02B27/44 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 张泽纯 |
| 地址： | 201800 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种三维达曼阵列产生器，特点是其构成包括沿入射的均匀强度激光平面波前进方向依次的二维达曼光栅、由第一透镜和第二透镜组成的共焦透镜组、入射光瞳、达曼波带片和消像差聚焦物镜，所述的二维达曼光栅是M×N的达曼光栅，所述的达曼波带片是1×Q达曼波带片，在所述的聚焦物镜的焦斑的一定范围内产生沿轴向和横向扩展的M×N×Q的三维激光聚焦焦斑阵列。这种三维的激光聚焦光斑沿轴向和横向间隔均匀，在空间上呈规则的“晶格”排布，并且各聚焦光斑强度相等。本发明产生的激光聚焦焦斑三维达曼阵列可以广泛应用于三维激光微纳加工包括三维光子晶体的制作、激光并行粒子及细胞捕获以及三维检测等方面。 | ||
| 搜索关键词： | 三维 阵列 产生器 | ||
【主权项】：
一种三维达曼阵列产生器，特征在于其构成是沿入射的均匀强度激光平面波(001)方向依次包括：二维达曼光栅(100)、由第一透镜(300)和第二透镜(400)组成的共焦透镜组、入射光瞳(600)、达曼波带片(200)和消像差聚焦物镜(500)，所述的二维达曼光栅(100)是M×N的达曼光栅，所述的达曼波带片(200)是1×Q达曼波带片，所述的达曼波带片(200)和所述的消像差聚焦物镜(500)的中心对准。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海光学精密机械研究所，未经中国科学院上海光学精密机械研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110388316.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
