[发明专利]一种太阳能电池边缘刻蚀方法

摘要

本发明提供了一种太阳能电池边缘刻蚀方法，其特征在于，步骤为：提供扩散后的硅片，对其进行一次等离子刻蚀，去除硅片四周的磷硅玻璃，随后，将等离子刻蚀后的硅片按照常规流程进行湿法刻蚀。本发明提供的太阳能电池边缘刻蚀方法，通过增加一次传统的等离子刻蚀，去除扩散后的硅片周边的磷硅玻璃，而使中间大部分的面积上保留磷硅玻璃的覆盖，从而在后续的湿法刻蚀过程中保护扩散层不受气相腐蚀，提高方块电阻稳定性；同时利用硅片周边的裸露硅本体的疏水性质防止刻蚀液浸润硅片的上表面。两次刻蚀后，电池片的并联电阻和填充因子明显提高，漏电流显著降低。从而实现低成本，高稳定性，高并联电阻的湿法刻蚀。

主权项

一种太阳能电池边缘刻蚀方法，其特征在于，步骤为：提供扩散后的硅片，对其进行一次等离子刻蚀，去除硅片四周的磷硅玻璃，随后，将等离子刻蚀后的硅片按照先去磷硅玻璃后刻蚀的流程进行湿法刻蚀。