[发明专利]一种等离子氢处理制备黑色Y2O3陶瓷涂层的方法有效

专利信息
申请号: 201110396196.7 申请日: 2011-12-02
公开(公告)号: CN103132006A 公开(公告)日: 2013-06-05
发明(设计)人: 邵花;王文东;刘邦武;夏洋;李勇滔 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: C23C4/12 分类号: C23C4/12;C23C4/10
代理公司: 北京市德权律师事务所 11302 代理人: 刘丽君
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及Y2O3陶瓷涂层制造技术领域,具体涉及一种等离子氢处理制备黑色Y2O3陶瓷涂层的方法。所述方法,包括如下步骤:步骤(1),选择纯度大于99.95%的Y2O3粉末;步骤(2),对待喷涂的基材表面进行预处理;步骤(3),通过等离子体喷涂设备在所述基材表面进行等离子喷涂,制备出Y2O3涂层;步骤(4),将步骤(4)中制备出的Y2O3涂层进行等离子体氢处理,即可得到黑色的Y2O3涂层。本发明利用等离子体氢还原法制备的黑色Y2O3涂层,具有耐刻蚀、耐脏的性能,且成本较低。
搜索关键词: 一种 等离子 处理 制备 黑色 sub 陶瓷 涂层 方法
【主权项】:
一种等离子氢处理制备黑色Y2O3陶瓷涂层的方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤(1),选择纯度大于99.95%的Y2O3粉末;步骤(2),对待喷涂的基材表面进行预处理;步骤(3),通过等离子体喷涂设备在所述基材表面进行等离子喷涂,制备出Y2O3涂层;步骤(4),将步骤(4)中制备出的Y2O3涂层放置于等离子体氢处理设备,进行等离子体氢处理,即可得到黑色的Y2O3涂层。
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