[发明专利]二硅化钼基耐磨复合涂层及其制备方法在审
| 申请号： | 201110396775.1 | 申请日： | 2011-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN103132005A | 公开（公告）日： | 2013-06-05 |
| 发明（设计）人： | 颜建辉;刘龙飞;唐思文;胡小平;许剑光 | 申请（专利权）人： | 湖南科技大学 |
| 主分类号： | C23C4/10 | 分类号： | C23C4/10;C23C4/12;C23C4/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 411201*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种二硅化钼基耐磨复合涂层及其制备方法。本发明的二硅化钼基耐磨复合涂层由过渡层和MoSi2涂层组成，过渡层为Mo材料，MoSi2涂层的厚度为160～300μm。其制备通过选用经喷雾干燥和微波烧结处理且粒度范围为18～54μm的MoSi2球形颗粒作为喷涂粉末，采用大气等离子喷涂技术制备涂层。本发明将Mo和Mo5Si3引入到MoSi2涂层中，改善了MoSi2单一涂层的韧性和致密性较差等缺点，同时也改善了MoSi2单一涂层与基体间的润湿性，增加MoSi2涂层内部颗粒之间的结合强度并降低了涂层的孔隙率，涂层在干摩擦条件下具有较好的耐磨性能。 | ||
| 搜索关键词： | 二硅化钼基 耐磨 复合 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
二硅化钼基耐磨复合涂层，其特征在于：该复合涂层由过渡层和MoSi2涂层组成，所述过渡层为Mo材料，MoSi2涂层的厚度为160～300μm。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法，例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理，例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
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C23C4-18 .后处理
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