[发明专利]一种选区异质外延衬底结构及其制备和外延层生长方法

摘要

本发明公开了一种选区异质外延衬底结构及其制备和外延层生长方法，属于光电子技术领域。本衬底结构包括一衬底，衬底上依次设有底层掩膜层、顶层掩膜层；其中，底层掩膜层设有周期性分布的条形窗口，顶层掩膜层上设有周期性分布的“十”字形窗口，“十”字形窗口之间为“工”字形顶层掩膜区；顶层的“工”字形顶层掩膜区两端通过分立的介质层与底层掩膜层的条形掩膜区连接；顶层“十”字形窗口与底层条形窗口相互错开。本发明同时提供了该衬底结构的制备方法以及基于该结构的外延层生长方法。与现有技术相比，本发明提供了一种一步法异质外延的衬底结构，简化了生长工序，同时提高了无位错外延膜的有效宽度，更具有使用价值。

主权项

一种选区异质外延衬底结构，其特征在于包括一衬底，所述衬底上依次设有底层掩膜层、顶层掩膜层；其中，所述底层掩膜层设有周期性分布的条形窗口，所述顶层掩膜层上设有周期性分布的“十”字形窗口，所述“十”字形窗口之间为“工”字形顶层掩膜区；所述顶层的“工”字形顶层掩膜区两端通过分立的介质层与所述底层掩膜层的条形掩膜区连接；所述顶层“十”字形窗口与所述底层条形窗口相互错开。