[发明专利]曝光装置及曝光方法有效
| 申请号： | 201110398588.7 | 申请日： | 2011-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN102591156A | 公开（公告）日： | 2012-07-18 |
| 发明（设计）人： | 施明宏;许哲豪;薛景峰 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 欧阳启明 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种曝光装置及曝光方法。所述方法包括：利用曝光光源来提供光线至所述光阻层，其中光线是穿过光掩模及透光基板来到达光阻层；以及利用反射板来将穿过透光基板及光阻层的光线反射回光阻层。本发明可缩小光阻层图案的线距。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，用于对一透光基板上的光阻层进行曝光，其特征在于：所述曝光装置包括：光掩模，设置于所述透光基板的一侧，其中所述光阻层是位于所述透光基板的相对一侧；曝光光源，用于提供光线至所述光阻层，其中所述曝光光源所提供的光线是穿过所述光掩模及所述透光基板来到达所述光阻层；以及反射板，设置于所述透光基板的所述相对一侧，且面对于所述光阻层，用于将穿过所述透光基板及所述光阻层的光线反射回所述光阻层。
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