[发明专利]一种紫外辐照接枝制备荷负电膜的方法

摘要

本发明公开了一种紫外辐照接枝制备荷负电膜的方法，该方法选用主链或侧链带有羰基或磺酰基的高分子聚合物膜为基膜，结构式XCnF2nOCmF2mSO3-G+的含氟阴离子(其中，X为卤素离子，G为氢离子或金属离子，n、m是1到40的整数，包括1和40)为功能性荷电剂，利用紫外光辐照接枝的方法，将该功能性荷电剂接枝到基膜表面，得到荷负电膜，以改善基膜的性能。与现有技术相比，本发明提供的荷负电膜的制备方法不使用光引发剂，因而不存在引发剂残基引起的环境污染问题；同时，该制备方法具有工艺简单、操作方便、加工速度快、处理效果好的优点，因此是一种低成本、高效率、绿色环保的方法，具有广泛的工业化应用前景。

主权项

一种紫外辐照接枝制备荷负电膜的方法，其特征是：包括如下步骤：步骤1：在溶剂中配制重量浓度为5％～60％的荷电剂溶液；所述的溶剂为丙酮、N‑甲基吡咯烷酮、甲醇、水、乙醇中的一种或几种；所述的荷电剂为含氟阴离子，其结构式为XCnF2nOCmF2mSO3‑G+，X为卤素离子，G为氢离子或金属离子，n、m是1到40的整数，包括1和40；步骤2：将主链或侧链带有羰基或磺酰基的基膜表面均匀覆盖一层步骤1得到的荷电剂溶液，然后放在紫外辐照光源下，在空气、氮气或惰性气体气氛中进行辐照接枝，使荷电剂接枝到基膜；步骤3：接枝反应完成后，洗涤除去基膜表面未反应的残留荷电剂和均聚物，得到荷负电膜。