[发明专利]光刻设备和可移除构件有效
| 申请号： | 201110401694.6 | 申请日： | 2011-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN102566304A | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | R·A·C·M·比伦斯;T·P·M·卡迪 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻设备和可移除构件。所述光刻设备布置成将图案形成装置的图案传递至衬底上，所述光刻设备具有第一物体和安装在第一物体上以改善至/来自第二物体的热传递的平面构件。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 构件 | ||
【主权项】：
一种光刻设备，布置成将图案从图案形成装置传递至衬底上，所述光刻设备包括用以改善至/来自物体的热传递的构件。
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