[发明专利]一种光学邻近修正方法

摘要

一种光学邻近修正方法，通过将客户提供的原始图形中，不符合规则的部分进行预处理，使该些部分的图形转化成符合规则的形状，然后在对整个图形进行OPC处理，从而使本发明可以避免因非规则图形对OPC处理带来的影响，大大提高了OPC处理的准确度。

主权项

一种光学邻近修正方法，其特征在于，所述修正方法包括步骤：根据工艺规格确定光刻工艺参数；根据所述光刻工艺参数确定光学邻近修正模型，建立光学邻近修正的运算程序；提供一待光学邻近修正的图形，根据一图形设计规则，确定该图形中不符合设计规则的部分；对不符合设计规则的部分做一图形预处理，将该些部分的图形规则化，并得到预处理之后的图形；对所述预处理之后的图形运行所述光学邻近修正的运算程序，得到该图形的修正图形。