[发明专利]硅熔体连续加注的直拉硅单晶生长炉及其方法无效

专利信息
申请号: 201110407848.2 申请日: 2011-12-09
公开(公告)号: CN102418140A 公开(公告)日: 2012-04-18
发明(设计)人: 曾泽斌 申请(专利权)人: 曾泽斌
主分类号: C30B15/00 分类号: C30B15/00;C30B29/06
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 张法高
地址: 310013 浙江省杭*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种硅熔体连续加注的直拉硅单晶生长炉及其方法。由提拉头、副炉室、隔离阀、炉体、上部保温罩、加热器、坩埚升降旋转机构、石墨坩埚、坩埚、钢丝绳、夹头等组成单晶提拉部分,由小炉筒、加料仓,隔离阀、加料和称重装置、连续熔化管,隔热体、加热器、熔体温度稳定管等构成熔体连续加注部分,实现多晶硅的连续熔化和硅单晶的连续生长。本发明能将相邻两次打开单晶炉的间隔时间延长到30天以上,能有效降低坩埚的尺寸、降低直拉硅单晶生长方法的能耗,提高了生产效率,也能有效降低直拉硅单晶生长方法的氧含量。
搜索关键词: 硅熔体 连续 加注 直拉硅单晶 生长 及其 方法
【主权项】:
一种硅熔体连续加注的直拉硅单晶生长炉,其特征在于:生长炉本体左侧从上到下顺次设有提拉头(1)、副炉室(2)、隔离阀(4)、炉盖(21)、炉体(16)、电极(11)、坩埚升降旋转机构(12),隔离阀(4)安装在炉盖(21)的上方,副炉室(2)安装在隔离阀(4)的上方,提拉头(1)安装在副炉室(2)的上方,炉盖(21)盖在炉体(16)上,下部隔热体(13)安装在炉体(16)的下部,炉体(16)内从底部向上顺次安装隔热体(10)、上部保温罩(20),在穿过炉体(16)底部的电极(11)上安装加热器(9),在下部隔热体(13)、加热器(9)、上部保温罩(20)围成的空间内安装石墨坩埚(8),在石墨坩埚(8)内安装坩埚(7),在坩埚(7)内安装坩埚内环(25),石墨坩埚(8)、坩埚(7)及坩埚(7)内的硅熔体(18)和坩埚内环(25)的重量由安装在炉体(16)底部下方的坩埚升降旋转机构(12)穿过炉体(16)的底部支撑,副炉室(2)、石墨坩埚(8)、坩埚(7)、坩埚内环(25)、加热器(9)是同轴布置,副炉室(2)、石墨坩埚(8)、坩埚(7)、坩埚内环(25)、加热器(9)的轴线相对炉体(16)的轴线向左偏移,炉体(16)、隔热体(10)、加热器(9)均为圆柱形,炉盖(21)的上方安装激光液面位置传感器(23)、直径控制探头(22),炉体(16)的侧壁中部安装炉体温度探头(19),提拉头(1)下端设有钢丝绳(3)、夹头(5);生长炉本体右侧的炉盖(21)的上方安装小炉筒(36),形状为圆筒形,在小炉筒 (36)的盖子上方向上顺次安装隔离阀(38)、加料和称重装置(39)、加料仓(40),加料仓(40)内安装石英玻璃套(41),小炉筒 (36)内的上部从外向内顺次安装隔热体(37)、加热器(34)、连续熔化管(35),热电偶(32)穿过小炉筒(36)的侧壁和隔热体(37)的中部插到隔热体(37)和加热器(34)之间,在小炉筒(36)的下部、炉体(16)的右上部和坩埚(7)的右上部,从外到内顺次安装隔热体(28)、加热器(29)、熔体温度稳定管(30),热电偶(27)穿过炉体(16)右上方的侧壁和隔热体(28)的中部插到加热器(29)和隔热体(28)之间,支架(31)安装在隔热体(28)上,连续熔化管(35)、隔热体(37)安装在支架(31)上,加料仓(40)、隔热体(37)、加热器(34)、连续熔化管(35)、隔热体(28)、加热器(29)、熔体温度稳定管(30)同轴,并垂直于水平方向,在炉体(16)的右侧底部下方安装的电极 (24)和电极(26)穿过炉体(16)的底部和炉体(16)的右侧分别与加热器(34)和加热器(29)相连;三组加热变压器(14)分别与电极(11)、电极(26)、电极(24)通过加热电缆相连,控制系统(15)与加热变压器(14)、直径控制探头 (22)、激光液面位置传感器(23)、炉体温度探头(19)、热电偶(32)、热电偶(27)、提拉头(1)、加料和称重装置(39)通过控制电缆相连接。
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