[发明专利]一种太阳电池吸收层薄膜材料的制备方法无效
申请号: | 201110409449.X | 申请日: | 2011-12-12 |
公开(公告)号: | CN102447009A | 公开(公告)日: | 2012-05-09 |
发明(设计)人: | 杨培志;自兴发 | 申请(专利权)人: | 云南师范大学 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 昆明慧翔专利事务所 53112 | 代理人: | 程韵波;周一康 |
地址: | 650093 云南*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | 本发明涉及一种太阳电池吸收层薄膜材料的制备方法。先在基底上磁控溅射钼金属作为前驱体,再采用三电极电化学体系沉积Cu3Bi合金层薄膜,作为预制膜,最后将金属预制膜Cu3Bi硫化及退火处理,得到Cu3BiS3(CBS)薄膜。该吸收层薄膜材料为直接带隙材料,其禁带宽度接近1.24eV,接近单结太阳能电池的最优带隙,在可见光区光吸收系数>105cm-1。 | ||
搜索关键词: | 一种 太阳电池 吸收 薄膜 材料 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种太阳电池吸收层薄膜材料的制备方法,其特征在于:采用射频磁控溅射方法,先在钠钙玻璃基底上溅射钼金属层,然后采用一步电化学体系在钼金属层上沉积Cu3Bi合金层,最后将Cu3Bi合金层进行硫化及退火处理,得到Cu3BiS3吸收层,所述的制备方法按以下步骤实施(1)将基底尺寸为10mm×10mm的钠碱玻璃依次采用洗涤剂、蒸馏水、异丙酮及乙醇进行超声清洗10分钟,并用流量为0.1m3/h氮气干燥10分钟;(2)在基底上采用射频(RF)磁控溅射沉积1μm厚的钼层前驱体(背电极);(3)用去离子水和纯度为99.99%的金属盐配制电解液,该电解液为含9毫摩尔硝酸铋,30毫摩尔硫酸铜二水化合物,2摩尔氢氧化钠和0.2摩尔山梨醇的混合溶液;(4)采用三电极电化学体系,以用制备好的钼层前驱体作为工作电极、采用铂金片作为对电极、采用Ag|AgCl作为参比电极,在配制好的电解液中沉积Cu3Bi合金层,沉积过程在室温下无搅拌进行,采用20稳压器恒电位方式,Cu3Bi合金沉积的化学电势为‑0.75V(相对于.Ag|AgCl参比电极),沉积量通过监测沉积电荷量来控制,时间50‑60分钟,得到Cu3Bi合金预制膜;(5)用去离子水清洗合金预制膜,并用流量为0.1m3/h的氮气干燥30分钟;(6)将Cu3Bi合金预制膜放入石墨容器,并将其置入石英炉管内,往石英炉内充入1巴压强的氮气作为载气,再往石英炉内充入压力1Pa,纯度为99.99wt%,流量为0.1m3/h的硫蒸气,在450‑500℃炉温下加热30分钟,自然冷却至室温,得到2μm厚的Cu3BiS3薄膜成品。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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