[发明专利]激光雕刻用树脂组合物、激光雕刻用浮雕印刷版原版及其制法、以及浮雕印刷版的制版方法无效

专利信息
申请号: 201110410108.4 申请日: 2011-12-09
公开(公告)号: CN102540713A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: 川岛敬史 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;G03F7/032;G03F7/075;G03F7/00;B41C1/05;B41N1/12
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 蒋亭
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明的目的在于提供冲洗洗涤液耐性优异、印刷时对水性墨液的耐久性高且对UV墨液的耐久性也优异的适合激光雕刻用浮雕印刷版原版的浮雕形成层的激光雕刻用树脂组合物。本发明的激光雕刻用树脂组合物,其特征在于,含有:(成分A)含有选自烯键式不饱和基、环氧基、氧杂环丁基、水解性甲硅烷基和硅烷醇基中的至少1种聚合性基团进而还具有磺酰胺基的低分子化合物,具有选自马来酰亚胺基、琥珀酰亚胺基和邻苯二甲酰亚胺基中的残基的低分子化合物,或者含有来自具有马来酰亚胺基的化合物的结构单元或具有磺酰胺基的结构单元的高分子化合物。
搜索关键词: 激光雕刻 树脂 组合 浮雕 印刷 原版 及其 制法 以及 制版 方法
【主权项】:
一种激光雕刻用树脂组合物,其特征在于,含有:(成分A)含有选自烯键式不饱和基、环氧基、氧杂环丁基、水解性甲硅烷基和硅烷醇基中的至少1种聚合性基团进而还具有磺酰胺基的低分子化合物,具有选自马来酰亚胺基、琥珀酰亚胺基和邻苯二甲酰亚胺基中的残基的低分子化合物,或者含有来自具有马来酰亚胺基的化合物的结构单元或具有磺酰胺基的结构单元的高分子化合物。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片株式会社,未经富士胶片株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110410108.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top