[发明专利]激光雕刻用树脂组合物、激光雕刻用浮雕印刷版原版及其制法、以及浮雕印刷版的制版方法无效
申请号: | 201110410108.4 | 申请日: | 2011-12-09 |
公开(公告)号: | CN102540713A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | 川岛敬史 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/032;G03F7/075;G03F7/00;B41C1/05;B41N1/12 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 蒋亭 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的目的在于提供冲洗洗涤液耐性优异、印刷时对水性墨液的耐久性高且对UV墨液的耐久性也优异的适合激光雕刻用浮雕印刷版原版的浮雕形成层的激光雕刻用树脂组合物。本发明的激光雕刻用树脂组合物,其特征在于,含有:(成分A)含有选自烯键式不饱和基、环氧基、氧杂环丁基、水解性甲硅烷基和硅烷醇基中的至少1种聚合性基团进而还具有磺酰胺基的低分子化合物,具有选自马来酰亚胺基、琥珀酰亚胺基和邻苯二甲酰亚胺基中的残基的低分子化合物,或者含有来自具有马来酰亚胺基的化合物的结构单元或具有磺酰胺基的结构单元的高分子化合物。 | ||
搜索关键词: | 激光雕刻 树脂 组合 浮雕 印刷 原版 及其 制法 以及 制版 方法 | ||
【主权项】:
一种激光雕刻用树脂组合物,其特征在于,含有:(成分A)含有选自烯键式不饱和基、环氧基、氧杂环丁基、水解性甲硅烷基和硅烷醇基中的至少1种聚合性基团进而还具有磺酰胺基的低分子化合物,具有选自马来酰亚胺基、琥珀酰亚胺基和邻苯二甲酰亚胺基中的残基的低分子化合物,或者含有来自具有马来酰亚胺基的化合物的结构单元或具有磺酰胺基的结构单元的高分子化合物。
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