[发明专利]CMOS图像传感器有效

专利信息
申请号: 201110410127.7 申请日: 2011-12-09
公开(公告)号: CN102427079A 公开(公告)日: 2012-04-25
发明(设计)人: 汪辉;丁毅岭;陈杰;田犁;方娜 申请(专利权)人: 上海中科高等研究院
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 丁纪铁
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种CMOS图像传感器,感光结构包括PIN结和多晶硅栅。PIN结由三个横向排列的掺杂区组成,第二掺杂区为PIN结的I型区,多晶硅栅形成于第二掺杂区上方、且多晶硅栅和第二掺杂区间隔离有栅氧化层。多晶硅栅能使I型区的能带产生弯曲,从而能增加使I型区的光生电荷的转移能力,当I型区长度超过了光生电子或光生空穴的扩散长度时,也能使光生电子或光生空穴有效转移到N型区或P型区中,从而能降低光生电荷的转移在转移过程中的复合几率,能够增加感光区的光生电荷的转移效率,也能增加感光区的长度和有效感光面积,能够提高光响应率。
搜索关键词: cmos 图像传感器
【主权项】:
一种CMOS图像传感器,形成在半导体衬底上,其特征在于:CMOS图像传感器的像素单元电路包括感光结构、CMOS像素读出电路;所述感光结构包括一PIN结和一多晶硅栅;所述PIN结由三个横向排列的掺杂区组成,第二掺杂区为所述PIN结的I型区;第一掺杂区为P型区、位于所述第二掺杂区的一侧、所述第一掺杂区和所述第二掺杂区接触连接;第三掺杂区为N型区、位于所述第二掺杂区的另一侧、所述第三掺杂区和所述第二掺杂区接触连接;所述多晶硅栅形成于所述第二掺杂区上方、且所述多晶硅栅和所述第二掺杂区间隔离有栅氧化层。
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