[发明专利](001)晶面暴露的混晶型纳米TiO2的制备方法无效
申请号: | 201110414153.7 | 申请日: | 2011-12-13 |
公开(公告)号: | CN102515270A | 公开(公告)日: | 2012-06-27 |
发明(设计)人: | 潘春旭;张豫鹏;张峻 | 申请(专利权)人: | 武汉大学 |
主分类号: | C01G23/053 | 分类号: | C01G23/053;B82Y40/00;B01J21/06 |
代理公司: | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 | 代理人: | 张火春 |
地址: | 430072 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开了一种(001)晶面暴露的混晶型纳米TiO2的制备方法,包括以下步骤:1)将钛酸四丁酯、NH4F和HF经混合均匀得到反应体系;2)将步骤1)所得反应体系于150-200℃温度下反应10-24小时;3)将步骤2)所得产物经洗涤、干燥,即可得到(001)晶面暴露的混晶型纳米TiO2。本发明方法工艺简单、易于控制、生产效率高,采用本发明方法所制备的(001)晶面暴露的混晶型纳米TiO2的光催化性能得到大大提高,在光催化领域具有很好的应用前景。 | ||
搜索关键词: | 001 暴露 混晶型 纳米 tio sub 制备 方法 | ||
【主权项】:
(001)晶面暴露的混晶型纳米TiO2的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:1)将钛酸四丁酯、NH4F和HF经混合均匀得到反应体系;2)将步骤1)所得反应体系于150‑200℃温度下反应10‑24小时;3)将步骤2)所得产物经洗涤、干燥,即可得到(001)晶面暴露的混晶型纳米TiO2。
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