[发明专利]一种源气隔离的固态源原子层沉积装置和方法无效
申请号: | 201110418621.8 | 申请日: | 2011-12-14 |
公开(公告)号: | CN102418084A | 公开(公告)日: | 2012-04-18 |
发明(设计)人: | 梅永丰;左雪芹 | 申请(专利权)人: | 无锡迈纳德微纳技术有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/455 |
代理公司: | 北京中恒高博知识产权代理有限公司 11249 | 代理人: | 刘洪京 |
地址: | 214028 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提供一种源气隔离的固态源原子层沉积装置和方法,前驱体源料提供系统,包括多个并联的前驱体源料支路,前驱体源料支路包括管路和前驱体源料容器,前驱体源料容器分为上下两部分,下部为存放固态前驱体源料的固态源容器,上部为气态前躯体存储的气态源容器,其中间设置有控制两者联通与断开的阀门,气态源容器两端设有脉冲执行器,固态源容器上设置有加热装置,各前驱体源料支路上设置有阀门,在一端汇集成前驱体源料总路后与吹扫气输送系统连接至反应腔体系统,反应腔体系统通过真空控制阀连接至真空泵,前驱体源料支路另一端连接至载气系统。 | ||
搜索关键词: | 一种 隔离 固态 原子 沉积 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种源气隔离的固态源原子层沉积装置,其特征在于: 前驱体源料提供系统,包括多个并联的前驱体源料支路,前驱体源料支路包括管路和前驱体源料容器,前驱体源料容器分为上下两部分,下部为存放固态前驱体源料的固态源容器,上部为气态前躯体存储的气态源容器,其中间设置有控制两者联通与断开的阀门,气态源容器两端设有脉冲执行器,固态源容器上设置有加热装置,各前驱体源料支路上设置有脉冲执行器,在一端汇集成前驱体源料总路后与吹扫气输送系统连接至反应腔体系统,反应腔体系统通过真空控制阀连接至真空泵,前驱体源料支路另一端连接至载气系统。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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