[发明专利]一种LPCVD工艺腔中的气体吹扫系统及方法

摘要

本发明涉及一种LPCVD工艺腔中的气体吹扫系统，具体地讲是涉及一种防止LPCVD工艺腔室之间交叉污染以及能够吹扫ZnO颗粒的气体吹扫系统，还涉及一种运用上述系统的LPCVD工艺中的气体吹扫方法。该系统包括加热腔、冷却腔和多个用于沉积BZO玻璃的工艺腔，各个腔室之间螺纹连接，还包括设置在工艺腔内，紧邻两工艺腔对接腔壁处的气体吹扫装置。该系统结构简单，成本低廉，通过气体吹扫切断工艺腔室之间的气场干扰，保证温度场和气场均匀性，最终保证BZO薄膜的均匀性，同时能够将玻璃在传输和工艺过程中洒落到BZO薄膜表面的ZnO的粉尘吹走，保证ZnO薄膜在下一个工艺腔室镀膜之前有一个洁净的表面，保证ZnO薄膜的质量。

主权项

一种LPCVD工艺腔中的气体吹扫系统，包括加热腔、冷却腔和多个用于沉积BZO玻璃的工艺腔，各个腔室之间螺纹连接，其特征在于还包括设置在工艺腔内，紧邻两工艺腔对接腔壁处的气体吹扫装置。