[发明专利]包含参考光束的垂直入射光谱仪及光学测量系统有效
| 申请号： | 201110427609.3 | 申请日： | 2011-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN103162830A | 公开（公告）日： | 2013-06-19 |
| 发明（设计）人： | 李国光;赵江艳;刘涛;郭青杨;艾迪格·基尼欧;马铁中 | 申请（专利权）人： | 北京智朗芯光科技有限公司 |
| 主分类号： | G01J3/42 | 分类号： | G01J3/42;G01J3/02 |
| 代理公司： | 北京市德权律师事务所 11302 | 代理人： | 刘丽君 |
| 地址： | 100191 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种包含参考光束的垂直入射光谱仪，包括光源、光源聚光单元、第一反射单元、第一聚光单元、第二聚光单元、第二反射单元和探测单元。本发明提供的包含参考光束的垂直入射光谱仪利用由平面反射镜组成的平面反射单元，实现了分光及分光后的光束的重新结合，在提高光通效率的同时，系统的复杂程度比现有技术低。该垂直入射光谱仪能够精确地测量各向异性或非均匀样品，如多层材料的薄膜厚度与光学常数。本发明还公开了一种包括上述光谱仪的光学测量系统。 | ||
| 搜索关键词： | 包含 参考 光束 垂直 入射 光谱仪 光学 测量 系统 | ||
【主权项】：
一种包含参考光束的垂直入射光谱仪，其特征在于，包括：光源、第一反射单元、第一聚光单元、第二聚光单元、第二反射单元和探测单元；所述第一反射单元用于将所述光源发出的光分为探测光束和参考光束两部分，并将这两部分光束分别入射至所述第一聚光单元和所述第二聚光单元；所述第一聚光单元用于接收所述探测光束，使其通过后变成会聚光束垂直地聚焦到样品上；所述第二聚光单元用于接收所述参考光束，并将其入射至所述第二反射单元；所述第二反射单元用于同时或分别接收从样品反射的经过所述第一聚光单元的探测光束和通过所述第二聚光单元的参考光束，并将所接收到的光束入射至所述探测单元；以及所述探测单元用于探测被所述第二反射单元所反射的光束。
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