[发明专利]超纯本征砷化镓材料的m-i-n二极管太赫兹辐射源及制作方法有效

专利信息
申请号: 201110428386.2 申请日: 2011-12-20
公开(公告)号: CN102496835A 公开(公告)日: 2012-06-13
发明(设计)人: 朱亦鸣;李州;杜少卿;陈麟;彭滟;袁明辉;倪争技;庄松林 申请(专利权)人: 上海理工大学
主分类号: H01S1/02 分类号: H01S1/02
代理公司: 上海东创专利代理事务所(普通合伙) 31245 代理人: 宁芝华
地址: 200093 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种超纯本征砷化镓材料的m-i-n二极管太赫兹超宽频辐射源,包括七层,自上而下依次为:上电极层、NiCr或半透明导电膜层、超纯本征砷化镓层、参杂硅的n型砷化镓缓冲层、砷化镓基底、In或者AuGeNi的合金层、下电极层;每层之间紧密相连;上电极层设置有一个窗口,上电极层、下电极层采用金或者良导体金属材料,并与外接电源连接,飞秒激光器发射的飞秒激光脉冲通过窗口照射到本征砷化镓层中,同时太赫兹电磁波从本征砷化镓层中通过窗口辐射出来。本发明结构简单,使用方便,不但得到了频谱宽度大于4太赫兹、脉冲宽度约1皮秒的太赫兹电磁波,而且通过增加光电导偶极芯片两电极之间的外加电压,可以调控所辐射太赫兹电磁场的强度。
搜索关键词: 征砷化镓 材料 二极管 赫兹 辐射源 制作方法
【主权项】:
一种超纯本征砷化镓材料的m‑i‑n二极管太赫兹超宽频辐射源,包括七层,其特征在于:自上而下依次为:上电极层、NiCr或半透明导电膜层、超纯本征砷化镓层、参杂硅的n型砷化镓缓冲层、砷化镓基底、In或者AuGeNi的合金层、下电极层;每层之间紧密相连;上电极层设置有一个窗口,上电极层、下电极层采用金或者良导体金属材料,并与外接电源连接,飞秒激光器发射的飞秒激光脉冲通过窗口照射到本征砷化镓层中,同时太赫兹电磁波从本征砷化镓层中通过窗口辐射出来。
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