[发明专利]一种具有高储能密度的锆酸铅基反铁电厚膜及制备方法有效
申请号: | 201110429068.8 | 申请日: | 2011-12-09 |
公开(公告)号: | CN102515755A | 公开(公告)日: | 2012-06-27 |
发明(设计)人: | 郝喜红;王鹏 | 申请(专利权)人: | 内蒙古科技大学 |
主分类号: | C04B35/49 | 分类号: | C04B35/49;C04B35/622;H01G13/00 |
代理公司: | 包头市专利事务所 15101 | 代理人: | 庄英菊 |
地址: | 014010 内蒙*** | 国省代码: | 内蒙古;15 |
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摘要: | 本发明涉及一种具有高储能密度的锆酸铅基反铁电厚膜及制备方法,属于电子功能材料与器件领域。本发明包括以下化学组分:按质量比:(Pb1-aLa2a/3)(Zr1-x-ySnxTiy)O3∶玻璃粉∶有机粘结剂=70~80∶1~5∶15~25,其中:0≤a≤0.06,0≤x≤0.45,0≤y≤0.10。本发明中的反铁电厚膜材料同时具有能量存储密度高、能量损耗低的特点,可以作为高功率大容量电容器开发和应用的关键材料。 | ||
搜索关键词: | 一种 具有 高储能 密度 锆酸铅基反铁电厚膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种具有高储能密度的锆酸铅基反铁电厚膜,其特征在于,包括以下化学组分:按质量比(Pb1‑aLa2a/3)(Zr1‑x‑ySnxTiy)O3∶玻璃粉∶有机粘结剂=70~80∶1~5∶15~25,其中:0≤a≤0.06,0≤x≤0.45,0≤y≤0.10。
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