[发明专利]一种光纤阵列动态红外场景生成装置的制作方法无效
| 申请号： | 201110429418.0 | 申请日： | 2011-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN102495450A | 公开（公告）日： | 2012-06-13 |
| 发明（设计）人： | 钱丽勋;李卓;周振浩;单伟;周丽丽;唐成;李平;欧文 | 申请（专利权）人： | 北京理工大学;北京机电工程研究所 |
| 主分类号： | G02B6/13 | 分类号： | G02B6/13;G02B6/138 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100081 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种光纤阵列动态红外场景生成装置的制作方法，属于动态红外场景生成技术领域。本方法利用MEMS工艺在硅片或者玻璃片上制作光纤阵列，同时在光纤阵列顶端制作可见光吸收红外辐射层，该方法的操作步骤包括：衬底的选择和清洗，光纤阵列刻蚀基础层制作，可见光吸收红外辐射层制作，金属刻蚀掩膜层制作，光刻刻蚀图形，金属掩膜层图形制作，清除金属掩膜板图形间距处可见光吸收红外辐射层材料，光纤阵列刻蚀基础层刻蚀，去除残留金属掩膜层以及装置制作的收尾步骤。本发明方法操作简单，制作工艺成熟，设计参数制作精确，具有很好的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光纤 阵列 动态 红外 场景 生成 装置 制作方法 | ||
【主权项】：
一种光纤阵列动态红外场景生成装置的制作方法，其特征在于：具体实施过程如下：步骤一、选择衬底；步骤二、清洗衬底操作面；步骤三、在清洗后的衬底操作面上制作光纤阵列刻蚀基础层；步骤四、在光纤阵列刻蚀基础层上制作可见光吸收红外辐射层；步骤五、在可见光吸收红外辐射层上方制作金属刻蚀掩膜层；步骤六、光刻刻蚀图形；步骤七、将步骤六的刻蚀图形转移到金属掩膜层上；步骤八、刻蚀金属掩膜层图像间距处可见光吸收红外辐射层材料；步骤九、刻蚀光纤阵列刻蚀基础层；步骤十、去除残留金属掩膜层；步骤十一、装置后处理；完成收尾步骤后，装置制作完成。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京理工大学;北京机电工程研究所，未经北京理工大学;北京机电工程研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110429418.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
