[发明专利]结晶硅太阳能电池的制造方法有效

专利信息
申请号: 201110436044.5 申请日: 2011-12-22
公开(公告)号: CN103178152A 公开(公告)日: 2013-06-26
发明(设计)人: 陈亮斌 申请(专利权)人: 茂迪股份有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 中国台湾新北市*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种结晶硅太阳能电池的制造方法,先于结晶硅基材的第一表面设置阻障层单元,阻障层单元包括由掺杂V族元素的氧化硅构成的阻挡层和至少一层由氧化硅构成的隔离层,再自结晶硅基材第二表面掺杂硼,阻挡层阻挡硼进入该第一表面,而使结晶硅基材自第二表面形成p型层体,再来,选择性地移除阻障层单元,最后,于该结晶硅基材第一表面对该结晶硅基材掺杂而形成n型层体。本发明利用阻挡层阻挡硼扩散,使其无法自结晶硅基材的第二表面进入结晶硅基材,以制得特性稳定的结晶硅太阳能电池。
搜索关键词: 结晶 太阳能电池 制造 方法
【主权项】:
一种结晶硅太阳能电池的制造方法,其特征在于,该结晶硅太阳能电池的制造方法包含一步骤a、一步骤b、一步骤c及一步骤d,该步骤a于一个结晶硅基材的一个第一表面设置一个阻障层单元,其中,该阻障层单元包括一层以掺杂V族元素的氧化硅为主要材料的阻挡层、及至少一层以氧化硅为主要材料的隔离层,该步骤b于该结晶硅基材相反于该第一表面的一个第二表面掺杂硼,该阻挡层阻挡硼,而使该结晶硅基材自该第二表面向该阻挡层方向形成一层p型层体,该步骤c选择性地移除该阻障层单元的预定结构,该步骤d于该第一表面对该结晶硅基材进行掺杂,而使该结晶硅基材自该第一表面向该第二表面方向形成一层n型层体。
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