[发明专利]多片远程等离子体增强原子层沉积腔室无效
申请号: | 201110436246.X | 申请日: | 2011-12-23 |
公开(公告)号: | CN102560422A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | 万军;饶志鹏;黄成强;陈波;李超波;夏洋;江莹冰;陶晓俊 | 申请(专利权)人: | 嘉兴科民电子设备技术有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 | 代理人: | 赵芳;徐关寿 |
地址: | 314006 浙江省嘉兴市南*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 多片远程等离子体增强原子层沉积腔室,包括真空腔室,所述真空腔室内安装有能放置多片样品的样品台架,所述真空腔室内在样品台架的外围设有加热圈,所述加热圈靠近腔壁的一侧连接有热反射板;所述真空腔室内在样品台架和加热圈之间设有进气管,所述进气管在与样品台架的相同空间高度内设有出气段;所述真空腔室内在热反射板的外围设置有匀气环,所述真空腔室在匀气环与其侧壁之间的底部上开有抽气口,所述抽气口与进气管位设在样品台架的两侧;所述真空腔室上连接有远程脉冲等离子发生系统,所述远程脉冲等离子发生系统包括连接在真空腔室底部的石英管,所述石英管外绕设有感应线圈,所述感应线圈上依次连接脉冲射频电源、阻抗匹配系统。 | ||
搜索关键词: | 远程 等离子体 增强 原子 沉积 | ||
【主权项】:
多片远程等离子体增强原子层沉积腔室,包括真空腔室,所述真空腔室由主腔壁和上腔盖组成,其特征在于:所述真空腔室内安装有能放置多片样品的样品台架,所述真空腔室内在样品台架的外围设有加热圈,所述加热圈靠近腔壁的一侧连接有热反射板;所述真空腔室内在样品台架和加热圈之间设有进气管,所述进气管在与样品台架的相同空间高度内设有出气段;所述真空腔室内在热反射板的外围设置有匀气环,所述真空腔室在匀气环与其侧壁之间的底部上开有抽气口,所述抽气口与进气管位设在样品台架的两侧;所述真空腔室上连接有远程脉冲等离子发生系统,所述远程脉冲等离子发生系统包括连接在真空腔室底部的石英管,所述石英管的另一端连接有带进气口的下法兰,所述石英管外绕设有感应线圈,所述感应线圈上依次连接脉冲射频电源、阻抗匹配系统。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于嘉兴科民电子设备技术有限公司,未经嘉兴科民电子设备技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110436246.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的