[发明专利]直立式沉积炉管有效
申请号: | 201110436852.1 | 申请日: | 2011-12-22 |
公开(公告)号: | CN102517565A | 公开(公告)日: | 2012-06-27 |
发明(设计)人: | 王硕;许忠义 | 申请(专利权)人: | 上海宏力半导体制造有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 骆苏华 |
地址: | 201203 上海市浦东新*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种直立式沉积炉管,包括气体反应腔、气体输入管、尾气排出管以及基座,所述基座上固定有支撑架,所述支撑架具有与用于承载晶圆的晶舟上的凹槽相配合的结构,所述支撑架包括内轴和套管,所述内轴固定在基座上,所述套管套接在内轴外侧,套管适于在外力作用下绕内轴旋转。在晶舟上凹槽的摩擦力作用下,套管会绕内轴旋转,凹槽与支撑架之间的摩擦力是滚动摩擦力,滚动摩擦力远小于静摩擦力,从而减小支撑架的磨损,避免产生碎屑散落到气体反应腔,提高产品的良率。 | ||
搜索关键词: | 立式 沉积 炉管 | ||
【主权项】:
一种直立式沉积炉管,包括气体反应腔、气体输入管、尾气排出管以及基座,所述基座上固定有支撑架,所述支撑架具有与用于承载晶圆的晶舟上的凹槽相配合的结构,其特征在于,所述支撑架包括内轴和套管,所述内轴固定在基座上,所述套管套接在内轴外侧,套管适于在外力作用下绕内轴旋转。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的