[发明专利]电感及形成方法有效
| 申请号： | 201110436853.6 | 申请日： | 2011-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN102522388A | 公开（公告）日： | 2012-06-27 |
| 发明（设计）人： | 林益梅 | 申请（专利权）人： | 上海宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/64 | 分类号： | H01L23/64;H01L21/02 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种电感及形成方法，所述电感包括：衬底，位于所述衬底表面的低K层间介质层，位于所述低K层间介质层上的电感线圈，位于所述电感线圈表面的保护层。由于位于半导体衬底和电感线圈的层间介质层为低K层间介质层，降低了电感线圈和衬底之间的介电常数，降低了所述衬底与电感线圈之间的寄生电容，从而提高了电感的Q值。 | ||
| 搜索关键词： | 电感 形成 方法 | ||
【主权项】：
一种电感，包括：衬底，其特征在于，还包括：位于所述衬底表面的低K层间介质层，位于所述低K层间介质层上的电感线圈，位于所述电感线圈表面的保护层。
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