[发明专利]发光二极管结构无效

专利信息
申请号: 201110439469.1 申请日: 2011-12-23
公开(公告)号: CN103178184A 公开(公告)日: 2013-06-26
发明(设计)人: 刘正毓;张正杰;刘晏硕;林治民;刘嘉修 申请(专利权)人: 亿光电子工业股份有限公司
主分类号: H01L33/40 分类号: H01L33/40
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 骆希聪
地址: 中国台湾新*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提出一种发光二极管结构,包括一第一型半导体层、一第二型半导体层、一有源层、一第一导电层、一导电材料层及一第二导电层。第二型半导体层配置于第一型半导体层上。有源层配置于第一型半导体层上,且位于第一型半导体层与第二型半导体层之间。第一导电层配置且电性连接在第一型半导体层上。导电材料层配置且电性连接在第二型半导体层上。导电材料层至少具有一第一厚度区域及一第二厚度区域,其中第一厚度区域的厚度大于第二厚度区域的厚度。第二导电层配置于且电性连接于导电材料层上。第二导电层位于导电材料层的第二厚度区域上。
搜索关键词: 发光二极管 结构
【主权项】:
一种发光二极管结构,包括:一第一型半导体层;一第二型半导体层,配置于该第一型半导体层上;一有源层,配置于该第一型半导体层上,且位于该第一型半导体层与该第二型半导体层之间;一第一导电层,配置于该第一型半导体层上,且电性连接该第一型半导体层;一导电材料层,配置该第二型半导体层上,且电性连接该第二型半导体层,该导电材料层至少具有一第一厚度区域以及一第二厚度区域,其中该第一厚度区域的厚度大于该第二厚度区域的厚度;以及一第二导电层,配置于该导电材料层上,且电性连接该导电材料层,其中该第二导电层位于该导电材料层的该第二厚度区域上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于亿光电子工业股份有限公司,未经亿光电子工业股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110439469.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top