[发明专利]反转叠层有机发光二极管有效

专利信息
申请号: 201110440229.3 申请日: 2011-12-26
公开(公告)号: CN102522508A 公开(公告)日: 2012-06-27
发明(设计)人: 秦大山 申请(专利权)人: 河北工业大学
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/54;C09K11/06
代理公司: 天津翰林知识产权代理事务所(普通合伙) 12210 代理人: 胡安朋
地址: 300401 天*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明反转叠层有机发光二极管,涉及有机发光二极管,是由双p型掺杂层和双n型掺杂层组成连接层结构的反转叠层有机发光二极管,由衬底上的一层阴极、再上一层有机n型掺杂电子传输层Ⅰ、再上一层有机n型掺杂电子注入层Ⅰ、再上一层有机发光层Ⅰ、再上一层有机空穴过渡层Ⅰ、再上一层有机p型掺杂空穴注入层Ⅰ、再上一层有机p型掺杂空穴传输层Ⅰ、再上一层有机n型掺杂电子传输层Ⅱ、再上一层有机n型掺杂电子注入层Ⅱ、再上一层有机发光层Ⅱ、再上一层有机空穴过渡层Ⅱ、再上一层有机p型掺杂空穴注入层Ⅱ、再上一层有机p型掺杂空穴传输层Ⅱ和再上一层阳极组成,克服了现有技术的反转叠层有机发光二极管驱动电压高、效率低和稳定性差的缺点。
搜索关键词: 反转 有机 发光二极管
【主权项】:
反转叠层有机发光二极管,其特征在于:是一种采用由双p型掺杂层和双n型掺杂层组成的连接层结构的反转叠层有机发光二极管,由衬底上的一层阴极、一层沉积在阴极上的有机n型掺杂电子传输层Ⅰ、一层沉积在有机n型掺杂电子传输层Ⅰ上的有机n型掺杂电子注入层Ⅰ、一层沉积在有机n型掺杂电子注入层Ⅰ上的有机发光层Ⅰ、一层沉积在有机发光层Ⅰ上的有机空穴过渡层Ⅰ、一层沉积在有机空穴过渡层Ⅰ上的有机p型掺杂空穴注入层Ⅰ、一层沉积在有机p型掺杂空穴注入层Ⅰ上的有机p型掺杂空穴传输层Ⅰ、一层沉积在有机p型掺杂空穴传输层Ⅰ上的有机n型掺杂电子传输层Ⅱ、一层沉积在有机n型掺杂电子传输层Ⅱ上的有机n型掺杂电子注入层Ⅱ、一层沉积在有机n型掺杂电子注入层Ⅱ上的有机发光层Ⅱ、一层沉积在有机发光层Ⅱ上的有机空穴过渡层Ⅱ、一层沉积在有机空穴过渡层Ⅱ上的有机p型掺杂空穴注入层Ⅱ、一层沉积在有机p型掺杂空穴注入层Ⅱ上的有机p型掺杂空穴传输层Ⅱ和一层沉积在有机p型掺杂空穴传输层Ⅱ上的阳极组成;其中,所述阴极是厚度为100 nm的氧化铟锡导电薄膜或20 nm厚的贵金属薄膜;所述沉积在阴极上的有机n型掺杂电子传输层Ⅰ的材料是在萘四甲酸二酐中掺杂派洛宁B,其质量配比为萘四甲酸二酐∶派洛宁B=1∶0.01~0.5;所述沉积在有机n型掺杂电子传输层Ⅰ上的有机电子注入层Ⅰ的材料是在4,7二苯基‑1,10‑菲啰啉中掺杂碳酸铷,其质量配比为4,7二苯基‑1,10‑菲啰啉∶碳酸铷=1∶0.01~0.5;所述沉积在有机n型掺杂电子注入层Ⅰ上的有机发光层Ⅰ的材料是三(8‑羟基喹啉)铝(Ⅲ);所述沉积在有机发光层Ⅰ上的有机空穴过渡层Ⅰ的材料是9,9'‑ (1,3‑苯基)二‑9H‑咔唑;所述沉积在有机空穴过渡层Ⅰ上的有机p型掺杂空穴注入层Ⅰ的材料是在4,4'‑二(9‑咔唑)联苯中掺杂三氧化铼,其质量配比为4,4'‑二(9‑咔唑)联苯∶三氧化铼=1∶0.01~0.5;所述沉积在有机p型掺杂空穴注入层Ⅰ上的有机p型空穴传输层Ⅰ的材料是在4,4',4'‑三[2‑萘基苯基氨基]三苯基胺中掺杂三氧化铼,其质量配比为4,4',4'‑三[2‑萘基苯基氨基]三苯基胺∶三氧化铼=1∶0.01~0.5;所述沉积在有机p型掺杂空穴传输层Ⅰ上的有机n型掺杂电子传输层Ⅱ的材料是在萘四甲酸二酐中掺杂派洛宁B,其质量配比为萘四甲酸二酐∶派洛宁B=1∶0.01~0.5;所述沉积在有机n型掺杂电子传输层Ⅱ上的有机n型掺杂电子注入层Ⅱ的材料是在4,7二苯基‑1,10‑菲啰啉中掺杂碳酸铷,其质量配比为4,7二苯基‑1,10‑菲啰啉∶碳酸铷=1∶0.01~0.5;所述沉积在有机n型掺杂电子注入层Ⅱ上的有机发光层的材料是三(8‑羟基喹啉)铝(Ⅲ);所述沉积在有机发光层Ⅱ上的有机空穴过渡层Ⅱ的材料是9,9'‑ (1,3‑苯基)二‑9H‑咔唑;所述沉积在有机空穴过渡层Ⅱ上的有机p型掺杂空穴注入层Ⅱ的材料是在4,4'‑二(9‑咔唑)联苯中掺杂三氧化铼,其质量配比为4,4'‑二(9‑咔唑)联苯∶三氧化铼=1∶0.01~0.5;所述沉积在有机p型掺杂空穴注入层Ⅱ上的有机p型掺杂空穴传输层Ⅱ的材料是在4,4',4'‑三[2‑萘基苯基氨基]三苯基胺中掺杂三氧化铼,其质量配比为4,4',4'‑三[2‑萘基苯基氨基]三苯基胺∶三氧化铼=1∶0.01~0.5;所述沉积在有机p型掺杂空穴传输层Ⅱ上的阳极为银。
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