[发明专利]高填充系数的双CMOS图像传感器像素单元及工作方法有效

专利信息
申请号: 201110441799.4 申请日: 2011-12-26
公开(公告)号: CN102447851A 公开(公告)日: 2012-05-09
发明(设计)人: 何进;苏艳梅;张东维 申请(专利权)人: 深港产学研基地
主分类号: H04N5/374 分类号: H04N5/374;H01L27/146
代理公司: 深圳市惠邦知识产权代理事务所 44271 代理人: 满群
地址: 518057 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种高填充系数的双CMOS图像传感器像素单元及其工作方法,其中像素单元仅由一个P+/N-Well/P-sub结构的二极管(N1)、一个源极跟随晶体管(M11)和一个选择晶体管(M12)组成;对应像素阵列工作方法包括:重置:施加高正电压的选择控制信号(Φ12)和重置控制信号(Φ11),以激活P+/N-Well/P-sub结构的二极管为节点充电;光集成:在一个固定光照集成时间内将Φ12和Φ11都置为低正电压,所述二极管中N-Well/P-sub部分积聚光产生载流子,所述节点放电;读出:在光集成后,只将Φ12改置为高正电压,对应所述载流子的光感信号通过M11和M12被列总线读出。
搜索关键词: 填充 系数 cmos 图像传感器 像素 单元 工作 方法
【主权项】:
一种高填充系数的双CMOS图像传感器像素单元,电连接偏置电压(Vdd1)、偏置电流(i1)、重置控制信号(Φ11)和选择控制信号(Φ12),其特征在于,包括:仅一个P+/N‑Well/P‑sub结构的二极管(N1),P+端电连接所述重置控制信号(Φ11),用于控制所述二极管(N1)中P+/N‑Well部分导通或截止;仅一个源极跟随晶体管(M11)和一个选择晶体管(M12),它们的射极互连,其中:源极跟随晶体管(M11),基极电连接所述P+/N‑Well/P‑sub结构的二极管(N1),集电极电连接所述偏置电压(Vdd1);选择晶体管(M12),基极电连接所述选择控制信号(Φ12),集电极通过读出总线电连接所述偏置电流(Vdd1),用于读出光感信号。
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