[发明专利]一种新型衬底屏蔽层的片上变压器结构无效

专利信息
申请号: 201110441941.5 申请日: 2011-12-27
公开(公告)号: CN102522402A 公开(公告)日: 2012-06-27
发明(设计)人: 文进才;孙玲玲;章南;苏国东 申请(专利权)人: 杭州电子科技大学
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01F30/06
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 杜军
地址: 310018 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及一种新型衬底屏蔽层的片上变压器结构。本发明包括片上变压器,在片上变压器的正下方设置有多层衬底屏蔽层;所述的衬底屏蔽层由矩形金属条和多根形状相同的金属栅条组成,所述的金属栅条与矩形金属条垂直设置,金属栅条之间等间距平行设置。本发明的新型衬底屏蔽层的片上变压器结构能实现更好的衬底隔离,减小衬底损耗,并且通过多个衬底屏蔽层能实现电容功能。
搜索关键词: 一种 新型 衬底 屏蔽 变压器 结构
【主权项】:
一种新型衬底屏蔽层的片上变压器结构,其特征在于:包括片上变压器,在片上变压器的正下方设置有多层衬底屏蔽层;所述的衬底屏蔽层由矩形金属条和多根形状相同的金属栅条组成,所述的金属栅条与矩形金属条垂直设置,金属栅条之间等间距平行设置。
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