[发明专利]一种降低选择性发射极太阳能电池发射极串联电阻的方法无效
申请号: | 201110443880.6 | 申请日: | 2011-12-27 |
公开(公告)号: | CN103187474A | 公开(公告)日: | 2013-07-03 |
发明(设计)人: | 张博;张炯;向勇 | 申请(专利权)人: | 张博;张炯 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 610031 四川省成都市金*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 一种降低选择性发射极太阳能电池发射极串联电阻的方法,其中,所述方法包括:使用与太阳能硅片极性相反的掺杂源在太阳能硅片上形成图形;对太阳能硅片执行扩散工艺,同时形成轻掺杂浓度的发射极以及在发射极内部的中等掺杂浓度的半导体沟道。本发明的方法制作太阳能电池的过程中,经过一次扩散工艺同时形成发射极以及位于发射极内的半导体沟道,无需使用其他热处理过程;半导体沟道的制备具有自对准特性,后续工艺无需使用对准技术。中等掺杂浓度半导体沟道在正面栅线电极之间形成电流通道,提高栅线电极的载流子收集能力,大幅降低电池串联电阻,达到改善电池填充因子,短路电流以及电池转换效率的目的。 | ||
搜索关键词: | 一种 降低 选择性 发射极 太阳能电池 串联 电阻 方法 | ||
【主权项】:
一种降低选择性发射极太阳能电池发射极串联电阻的方法,其特征在于,所述方法包括如下步骤:A、对太阳能硅片执行标准的制绒工艺,形成太阳能硅片表面的金字塔结构;B、使用与所述太阳能硅片极性相反的掺杂源在所述太阳能硅片上制作图形;C、对所述太阳能硅片执行标准扩散工艺,同时形成轻掺杂浓度的发射极和位于发射极内部的中等掺杂浓度的半导体沟道;此外,在所述太阳能硅片表面形成含有杂质的二氧化硅层;扩散掺杂源极性与所述太阳能硅片极性相反;D、对所述太阳能硅片执行标准的去边绝缘和去二氧化硅工艺,将所述太阳能硅片侧面和背面的与所述太阳能硅片极性相反的硅片和表面的二氧化硅层完整去除;E、对所述太阳能硅片执行清洗工艺,去除含有掺杂源的残留物;F、在所述轻掺杂发射极和中等掺杂浓度半导体沟道制备完成后,继续进行抗反射膜、选择性发射极、栅线电极、母线电极以及背电极等其他部分的制备工艺,最终完成选择性发射极太阳能电池的制作。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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