[发明专利]一种白光LED芯片制造方法及其产品有效
申请号: | 201110447287.9 | 申请日: | 2011-12-28 |
公开(公告)号: | CN103187488A | 公开(公告)日: | 2013-07-03 |
发明(设计)人: | 王怀兵;吴思;王辉;孔俊杰;王勇;徐金雄 | 申请(专利权)人: | 苏州新纳晶光电有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L33/38;H01L33/50 |
代理公司: | 南京苏科专利代理有限责任公司 32102 | 代理人: | 陆明耀;陈忠辉 |
地址: | 215021 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明揭示了一种白光LED芯片制造方法及其产品,本发明通过在芯片焊垫周围制作内围坝,预留焊盘,在芯片外框制作外围坝,预留划片槽,然后在内围坝和外围坝间涂敷荧光粉的方法制得白光LED芯片。本发明的方法能在芯片表面获得平整均匀的荧光粉涂层,真正实现荧光粉芯片级封装。这种方法得到的白光芯片的色温一致,没有局部蓝圈或黄圈的不均匀光斑。 | ||
搜索关键词: | 一种 白光 led 芯片 制造 方法 及其 产品 | ||
【主权项】:
一种白光LED芯片的制造方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤一、在衬底上生长完整的LED外延结构:在蓝宝石衬底上利用有机化学气相沉积的方法依次外延生长N型电极接触层,发光有源区,P型电极接触层;步骤二、制作N型电极区:利用光刻胶或介质膜作掩膜,用离子刻蚀的方法在P‑GaN上将设计的N型接触区域和分割区域刻蚀至N型接触电极区;步骤三、制作透明导电层:用光刻和蒸镀的方法在P‑GaN表面制作透明导电层,并在400℃~600℃时,退火10~30分钟;步骤四、制作电极:利用光刻胶作掩膜,蒸镀金属,剥离之后形成P型欧姆接触电极和N型欧姆接触电极;步骤五、制作围坝:在步骤四的P型和N型接触电极周围形成内围坝,在芯片外框形成外围坝;步骤六、涂覆荧光粉:将荧光粉粉末与硅胶或环氧树脂按比例混合,经过脱泡处理,制成粉浆,在步骤五的芯片的内外围坝之间涂敷粉浆;步骤七、分割芯片:将经过步骤六涂覆荧光粉的基板背面减薄,用划片和裂片的方法将芯片分割成独立单元。
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