[发明专利]一类可交联的噻吩并[3,4-b]噻吩共轭聚合物及其制备方法与应用

摘要

本发明公开了一种含交联基团的噻吩并[3，4-b]噻吩的共轭聚合物及其制备方法与应用。该共轭聚合物的结构式如式i所示，式i中r₁是在紫外光照或加热或存在引发剂的条件下可交联的官能团，r₂是在紫外光照或加热或存在引发剂的条件下可交联的官能团，或是与r₁不同的不可交联的取代基；ar₁、ar₂是相同的或不相同的具有共轭特征的单元；x₁、x₂均选自下述基团中的任意一种：h，f，cl，br，氰基，酯基；a/(a+b)是0-1的任意值且a/(a+b)不为0；n代表聚合物主链单元的重复个数，其数值是大于等于4的自然数。本发明提供的聚合物具有较窄的带隙，并能通过交联提高该共轭聚合物的抗溶剂性，这种聚合物在光电功能器件，特别是聚合物太阳能电池领域有着广阔的应用前景。(式i)

主权项

1.结构式如式I所示的共轭聚合物：(式I)式I中，R₁是在紫外光照或加热或存在引发剂的条件下可交联的官能团，R₂是在紫外光照或加热或存在引发剂的条件下可交联的官能团，或是不可交联的取代基；Ar₁、Ar₂是相同的或不相同的具有共轭特征的单元；X₁、X₂均选自下述基团中的任意一种：H，F，Cl，Br，氰基，酯基；a/(a+b)是0-1的任意值且a/(a+b)不为0；n代表聚合物主链单元的重复个数，其数值是大于等于4的自然数。