[发明专利]一种纳米热压印装置无效

专利信息
申请号: 201110450091.5 申请日: 2011-12-29
公开(公告)号: CN102436141A 公开(公告)日: 2012-05-02
发明(设计)人: 史晓华;冀然;陈沁;薛愉峰 申请(专利权)人: 苏州光舵微纳科技有限公司
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00
代理公司: 南京理工大学专利中心 32203 代理人: 朱显国
地址: 215513 江苏省苏州市常*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开一种纳米热压印装置,包括模具(16)、毛坯(15)、加热盘(14)、底座(9)、腔体(3),腔体(3)与底座(9)活动密封形成密闭空间,模具(16)、毛坯(15)和加热盘(14)封闭在该密闭空间内,所述腔体(3)内还设置有膜(6),该膜(6)在所述腔体(3)与底座(9)的密封接触面处被固定,将腔体与底座构成的密闭空间分成压力腔(12)和真空腔(11),压力腔(12)与进气道(5)相通,真空腔(11)与排气道(10)相通。本发明能使纳米压印模仁平衡、均匀、与表面垂直地压入压印基板,产品质量稳定,结构简单,操作方便。
搜索关键词: 一种 纳米 压印 装置
【主权项】:
一种纳米热压印装置,包括模具(16)、毛坯(15)、加热盘(14)、底座(9)、腔体(3),加热盘(14)放置在底座(9)上,毛坯(15)放置在加热盘(14)上,模具(16)放置在毛坯(15)上,腔体(3)与底座(9)活动密封形成密闭空间,模具(16)、毛坯(15)和加热盘(14)封闭在该密闭空间内,其特征在于:所述腔体(3)内还设置有膜(6),该膜(6)在所述腔体(3)与底座(9)的密封接触面处被固定,将腔体与底座构成的密闭空间分成压力腔(12)和真空腔(11),压力腔(12)与进气道(5)相通,真空腔(11)与排气道(10)相通。
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