[发明专利]电场辅助化学机械抛光系统及其方法有效
| 申请号： | 201110456130.2 | 申请日： | 2011-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN103182687A | 公开（公告）日： | 2013-07-03 |
| 发明（设计）人： | 陈炤彰;谢启祥 | 申请（专利权）人： | 陈炤彰 |
| 主分类号： | B24D13/14 | 分类号： | B24D13/14;B24B37/20;B24B37/04 |
| 代理公司： | 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 | 代理人： | 翟羽 |
| 地址： | 中国台湾台北*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种抛光垫结构设计，其包括一底盘；一抛光垫本体，在所述抛光垫本体上具有若干个凹孔；若干个金属底部被设置于所述等凹孔内，并且在每一所述等凹孔内都具有一金属底部；一电源正极导线，其用于电性连接至一正极电源供应部；以及一电源负极导线，其用于电性连接至一负极电源供应部；其中所述电源正极导线及所述电源负极导线，穿过所述底盘而交错地连接至所述若干金属底部。本发明之抛光垫可以产生电渗透(Electro-osmosis)现象及电化学反应而使部份材料移除，进而有效降低残留应力、有效降低缺陷的产生、移除速率快及维持研磨颗粒均一性等优点及功效。 | ||
| 搜索关键词： | 电场 辅助 化学 机械抛光 系统 及其 方法 | ||
【主权项】：
一种抛光垫，其包括：一底盘；一抛光垫本体，其不具导电性并且被设置于所述底盘上，并且在所述抛光垫本体上具有若干个凹孔；若干金属底部，其设置于所述等凹孔内，并且所述每一凹孔内都具有一个金属底部；一电源正极导线，用于电性连接至一正极电源供应部；以及一电源负极导线，用于电性连接至一负极电源供应部；其中所述电源正极导线及所述电源负极导线，穿过所述底盘而交错地连接至所述若干金属底部。
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