[发明专利]一种用于凸点制造的激光定位方法在审

专利信息
申请号: 201110457351.1 申请日: 2011-12-30
公开(公告)号: CN103187325A 公开(公告)日: 2013-07-03
发明(设计)人: 崔小乐;舒磊;何艺;沈海军 申请(专利权)人: 北京大学深圳研究生院;南通富士通微电子股份有限公司
主分类号: H01L21/60 分类号: H01L21/60;B23K1/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518055 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种用于凸点制造的激光定位方法,其特征在于包括:采用激光器产生激光;经过迈克尔逊干涉仪以及信号处理电路;采用多模半导体激光器定位装置进行动态定位。晶片凸点制作是倒装芯片技术的核心,本发明采用了激光定位方法来制造凸点,传统的采用照相机和影像处理技术的图像定位方式,由于凸点的直径,凸点间距,以及相机的像素等因素会造成图像定位的精确度明显降低,本发明利用激光的方向精确性和能量集中性的特点,激光经过迈克尔逊干涉仪形成不同的干涉图样,通过干涉条纹的强度分布来检测等光程点,从而实现凸点的准确定位,同时还能够很好的提高晶片凸点制作的成品率,降低了芯片封装的成本。
搜索关键词: 一种 用于 制造 激光 定位 方法
【主权项】:
一种用于凸点制造的激光定位方法,其特征在于包括:采用激光器产生激光;经过迈克尔逊干涉仪以及信号处理电路;采用多模半导体激光器定位装置进行动态定位;利用激光的方向精确性和能量集中性的特点,从而能够实现凸点的准确定位,同时还能够很好的提高晶片凸点制作的成品率,降低了芯片封装的成本。
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