[发明专利]一种涂胶显影机及其使用方法无效
| 申请号： | 201110457599.8 | 申请日： | 2011-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN103186049A | 公开（公告）日： | 2013-07-03 |
| 发明（设计）人： | 赵迎春;罗明辉;吴铸伟;陈景智 | 申请（专利权）人： | 北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F7/30;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 郭润湘 |
| 地址： | 100871 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种涂胶显影机及其使用方法，包括：托盘和位于托盘中心位置的吸盘，还包括：设置在托盘上的多个背洗孔，多个背洗孔围绕在吸盘外侧，用于在硅片显影完成后对硅片冲水，清洗硅片背面的显影液。由于本发明实施例提供的涂胶显影机与现有技术中的涂胶显影机相比，增加了围绕在吸盘外侧的多个背洗孔，能够在硅片显影完成后对硅片进行冲水，清洗掉硅片背面的显影液，避免了硅片背面沾污，提高了产品的良率，从而节约了半导体的制造成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 涂胶 显影 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
一种涂胶显影机，包括：托盘(3)和位于所述托盘(3)中心位置的吸盘(2)，其特征在于，还包括：设置在所述托盘(3)上的多个背洗孔(4)，所述多个背洗孔(4)围绕在所述吸盘(2)外侧，用于在硅片(1)显影完成后对所述硅片(1)冲水，清洗所述硅片(1)背面的显影液。
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