[发明专利]晶圆的清洗装置及清洗方法有效

专利信息
申请号: 201110457995.0 申请日: 2011-12-30
公开(公告)号: CN102430543A 公开(公告)日: 2012-05-02
发明(设计)人: 张晨骋 申请(专利权)人: 上海集成电路研发中心有限公司
主分类号: B08B3/12 分类号: B08B3/12
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 郑玮
地址: 201210 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种晶圆的清洗装置及清洗方法,所述晶圆的清洗装置中清洗平台的上表面倾斜于清洗平台的下表面,在清洗过程中,所述超声波振荡器固定,所述清洗平台做水平周期性连续转动和移动,使所述超声波振荡器与晶圆中心的距离产生周期性连续变化。与现有技术相比,本发明所述晶圆的清洗装置,在清洗过程中,通过所述超声波振荡器固定,所述清洗平台做水平周期性连续移动,使所述超声波振荡器与晶圆中心的距离产生周期性连续变化,从而提高了超声波能量的均匀性,减小了清洗损伤,提升了清洗效果。
搜索关键词: 清洗 装置 方法
【主权项】:
一种晶圆的清洗装置,包括:清洗平台,晶圆固定于所述清洗平台上;超声波振荡器,设置于所述晶圆上方;其特征在于,所述清洗平台的上表面倾斜于清洗平台的下表面,在清洗过程中,所述超声波振荡器固定,所述清洗平台带动晶圆做周期性连续转动和移动,使所述超声波振荡器与晶圆中心的距离产生周期性连续变化。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海集成电路研发中心有限公司,未经上海集成电路研发中心有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110457995.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top