[发明专利]连续沉积装置有效
| 申请号： | 201110458152.2 | 申请日： | 2011-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN102738447A | 公开（公告）日： | 2012-10-17 |
| 发明（设计）人： | 李星昊;朴成镐;林永昌;李济玩;郑锡宪;崔完旭 | 申请（专利权）人： | 三星SDI株式会社 |
| 主分类号： | H01M4/139 | 分类号： | H01M4/139 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 薛义丹;刘奕晴 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 公开了一种在电极集电体上形成非涂覆部分的连续沉积装置。连续沉积装置包括：第一导向鼓状物，与从拆卷机供应的电极集电体的一个表面接触以对电极集电体进行导向；第一沉积源，与第一导向鼓状物相邻以将电极形成材料喷射到通过第一导向鼓状物的电极集电体上；第一固定遮蔽单元，包括与第一导向鼓状物相邻的第一暴露部，并局部敞开以将电极集电体暴露于电极形成材料；第一移动遮蔽单元，包括第一掩蔽部、设置在第一固定遮蔽单元的下部的另一侧的第二掩蔽部、使第一掩蔽部水平移动的第一驱动部和使第二掩蔽部水平移动的第二驱动部，第一掩蔽部水平移动以遮蔽第一暴露部，第二掩蔽部水平移动并能够与第一掩蔽部布置在同一竖直线上以遮蔽第一暴露部。 | ||
| 搜索关键词： | 连续 沉积 装置 | ||
【主权项】：
一种连续沉积装置，所述连续沉积装置包括：第一导向鼓状物，与从拆卷机供应的电极集电体的一个表面接触，以对电极集电体进行导向；第一沉积源，与所述第一导向鼓状物相邻，以将电极形成材料喷射到通过所述第一导向鼓状物的电极集电体上；第一固定遮蔽单元，包括与所述第一导向鼓状物相邻的第一暴露部，并且局部敞开以将电极集电体暴露于电极形成材料；和第一移动遮蔽单元，包括：第一掩蔽部，设置在所述第一固定遮蔽单元的下部的一侧下方，所述第一掩蔽部水平地移动以遮蔽所述第一暴露部；第二掩蔽部，设置在与所述第一掩蔽部所设置的平面不同的平面上并且设置在所述第一固定遮蔽单元的下部的另一侧，所述第二掩蔽部水平地移动并且能够与所述第一掩蔽部布置在同一竖直线上以遮蔽所述第一暴露部；第一驱动部，使所述第一掩蔽部水平地移动；第二驱动部，使所述第二掩蔽部水平地移动。
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