[发明专利]板式PECVD设备自动上下料系统的碳板升降台有效
| 申请号： | 201110458758.6 | 申请日： | 2011-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN102560423A | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | 刘晓平;陈平 | 申请（专利权）人： | 无锡市奥曼特科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44 |
| 代理公司： | 无锡盛阳专利商标事务所(普通合伙) 32227 | 代理人： | 顾吉云 |
| 地址： | 214024 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了板式PECVD设备自动上下料系统的碳板升降台，其能完成硅片输送碳板在设备出料口（或进料口）与底部水平输送线之间的垂直输送，保证硅片上下料的全自动操作。其包括机架，其特征在于：其还包括竖向平移机构和水平输送机构，竖向平移机构通过固定板安装于机架的纵向一侧机架壁，水平输送机构通过连接板安装于竖向平移机构。 | ||
| 搜索关键词： | 板式 pecvd 设备 自动 上下 系统 升降台 | ||
【主权项】：
板式PECVD设备自动上下料系统的碳板升降台，其包括机架，其特征在于：其还包括竖向平移机构和水平输送机构，所述竖向平移机构通过固定板安装于所述机架的纵向一侧机架壁，所述水平输送机构通过连接板安装于所述竖向平移机构。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
