[发明专利]掩膜板及其制作方法、光刻胶层的曝光方法

摘要

一种掩膜板及其制作方法、光刻胶层的曝光方法，掩膜板包括透明基板，所述透明基板的预定区域具有掺杂离子，具有掺杂离子的预定区域构成掩膜板上的图形；所述掺杂离子在泵浦光的照射下实现从低能级到高能级的跃迁；实现从低能级到高能级的跃迁后，所述掺杂离子在诱导光的照射下，产生发射光线，所述发射光线的波长、相位、振幅、传播方向均与所述诱导光相同，且所述发射光线的光强大于所述诱导光和泵浦光的光强。本技术方案改变了传统的对光刻胶层进行曝光的方法，就避免了光线经过掩膜板时的衍射现象，无论图形的特征尺寸缩小到何种程度，均可以利用该掩膜板进行光刻胶层的曝光工艺。

主权项

一种掩膜板，其特征在于，包括：透明基板，所述透明基板的预定区域具有掺杂离子，具有掺杂离子的预定区域构成掩膜板上的图形；所述掺杂离子在泵浦光的照射下实现从低能级到高能级的跃迁；实现从低能级到高能级的跃迁后，所述掺杂离子在诱导光的照射下，产生发射光线，所述发射光线的波长、相位、振幅、传播方向均与所述诱导光相同，且所述发射光线的光强大于所述诱导光和泵浦光的光强。