[发明专利]一种微纳光纤光栅激光写入方法及装置

摘要

本发明公开了一种微纳光纤光栅激光写入方法及装置，该方法是对普通多模光纤进行拉锥，制作微纳光纤，然后采用193nm紫外激光作为刻写手段。该装置包括光纤夹具以及依次设置的出射193nm紫外激光的ArF准分子激光器、45度全功率反射镜、柱面透镜、相位掩模板，经拉锥后的光纤固定在光纤夹具上，光纤的微纳光纤区平行设置于相位掩模板前方，ArF准分子激光器发射的193nm紫外激光经45度全功率反射镜发射后垂直射向柱面透镜，相位掩模板设置在柱面透镜前方。本发明无需对光纤进行额外的处理，保持了光纤的机械强度和韧性，成本低廉，刻写效率高，带宽窄、方式可控，重复率高。

主权项

一种微纳光纤光栅激光写入方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)拉锥：将多模光纤的外涂覆层除去，然后将光纤两端固定于光纤夹具之上，用高温热源对去掉涂覆层的光纤区域进行预热，待光纤进入熔融状态后，用左右两端的光纤夹具对光纤进行拉伸，同时高温热源以预热区为中心左右往返移动，拉伸后的光纤分为两个部分，一个是直径渐变过渡区，另一个是微纳光纤区；(2)写入：将步骤(1)所形成光纤的微纳光纤区固定于相位掩模板前方，193nm紫外激光通过相位掩模板对微纳光纤区曝光。