[发明专利]修改基底以在其中形成通路孔的方法和相关制品有效

专利信息
申请号: 201110461800.X 申请日: 2011-12-23
公开(公告)号: CN102528413A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: R·S·班克;魏斌;H·齐 申请(专利权)人: 通用电气公司
主分类号: B23P17/00 分类号: B23P17/00;C23C24/10;F02C7/12
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 李强;杨楷
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种修改基底以在其中形成通路孔的方法和相关制品。描述了一种用于在高温基底(64)中形成至少一个通路孔(100)的方法。对于各个所需通路孔或一组通路孔,首先通过激光熔凝工艺在基底(64)的外表面(62)上形成结(60)。该结用作用于各个通路孔(100)的预选入口区域。然后可形成穿过结(60)且进入基底(64)的通路孔(100)。还描述了相关制品,例如涡轮发动机部件。
搜索关键词: 修改 基底 其中 形成 通路 方法 相关 制品
【主权项】:
一种用于在高温基底(64)中形成至少一个通路孔(100)的方法,包括下列步骤:a)对于各个通路孔或对于一组通路孔,通过激光熔凝工艺在所述基底(64)的外表面(84)上形成结(80);其中所述结包括上表面(83),并且被定位为用于所述通路孔(100)或用于所述一组通路孔的预选入口区域;b)在所述基底(84)的所述外表面上施加保护涂层系统(68);其中所述涂层系统包括至少一个下面的金属层和一个上面的陶瓷层;以及c)形成穿过各个结(80)且进入所述基底(64)的所述通路孔(100)或一组通路孔;同时所述结(80)的所述上表面(83)基本上没有所述涂层系统(68)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于通用电气公司,未经通用电气公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110461800.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top