[发明专利]光敏共聚物和光致抗蚀剂组合物

摘要

本发明涉及光敏共聚物和光致抗蚀剂组合物，具体涉及一种由下式所示的共聚物，其中，R₁-R₅独立地为H，C_1-6烷基或C_4-6芳基，R₆为氟化或未氟化的C_5-30酸可分解基团；每个Ar独立地为C_6-20的单环、多环或稠合多环芳基基团；每个R₇和R₈独立地为-OR₁₁或C(CF₃)₂OR₁₁基团，其中，每个R₁₁独立地为H，氟化或未氟化的C_5-30酸可分解基团，或它们的组合；每个R₉独立地为F，C_1-10烷基，C_1-10氟烷基，C_1-10烷氧基或C_1-10氟烷氧基；R₁₀为含有光致产酸剂的阳离子-结合C_10-40基团，摩尔分数a，b，d独立地为0-0.80，摩尔分数c为0.01-0.80，e为0-0.50，前提是a，b，d均为0时，则e大于0，摩尔分数a+b+c+d+e之和为1，l和m独立地为1-4的整数，且n为0-5的整数。一种光致抗蚀剂，以及一种涂层基材，其均包括所述共聚物。

主权项

1.一种由下式所示的共聚物，其中，R₁-R₅独立地为H，C_1-6烷基或C_4-6芳基，R₆为氟化或未氟化的C_5-30酸可分解基团；每个Ar独立地为C_6-20的单环、多环或稠合多环芳基基团；每个R₇和R₈独立地为-OR₁₁或C(CF₃)₂OR₁₁基团，其中，每个R₁₁独立地为H，氟化或未氟化的C_5-30酸可分解基团，或它们的组合；每个R₉独立地为F，C_1-10烷基，C_1-10氟烷基，C_1-10烷氧基或C_1-10氟烷氧基；R₁₀为含有光致产酸剂的阳离子-结合C_10-40基团，摩尔分数a，b，d独立地为0-0.80，摩尔分数c为0.01-0.80，e为0-0.50，前提是a，b，d均为0时，e大于0，摩尔分数a+b+c+d+e之和为1，l和m独立地为1-4的整数，且n为0-5的整数。