[发明专利]阀金属等离子体电解氧化表面处理方法无效
| 申请号： | 201110462802.0 | 申请日： | 2011-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN103088384A | 公开（公告）日： | 2013-05-08 |
| 发明（设计）人： | 邓焕平;吕福兴 | 申请（专利权）人： | 和淞科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C25D11/02 | 分类号： | C25D11/02 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 彭茜茜;白益华 |
| 地址： | 中国台湾新*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种阀金属等离子体电解氧化表面处理方法，其特点在于所用的一电解液至少包含碳酸氢根，且电解液的pH值为7-14。本发明可提供符合业界标准的氧化膜，且本发明电解液的主盐为碳酸氢盐，其相较于硅酸盐、铝酸盐及磷酸盐，具有成本及取得容易度的优势，因此相较于现有的电解液具有优势。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 等离子体 电解 氧化 表面 处理 方法 | ||
【主权项】：
一种阀金属等离子体电解氧化表面处理方法，其特征在于，包含下列步骤：提供一电解液至一等离子体电解氧化装置，其中该电解液至少包括碳酸氢根，且该电解液的pH值为7‑14；浸润一基材于该电解液，其中该基材包含一阀金属材料；将该基材与该等离子体电解氧化装置电性连接；以及自该等离子体电解氧化装置的一电极提供一阳极电流于该基材，使一阀金属氧化物膜形成于该基材的表面。
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